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                新闻中心
                2022/02/17
                MEMS器件设计工艺如何进一步优化
                博研小编认为在通过设备改进提高晶圆相关性能的∴同时,晶圆厂还必须优化其工艺流程,以提高可靠性、产量和产量。新流程的开》发可能需要多个构建和测试周期,因此时间和金钱成本...
                2022/02/17
                MEMS加工升☆级面临哪些问题
                长期以来,计算机、手机和一些汽车应用程序一直是推动半导体设备增长的动ζ力。这些传统市场的发展也加速了人工智能(人工智能)、虚拟现实(虚拟现实)、增强现实(AR)、机器人...
                2022/02/17
                微纳加工丨微纳压印中压电平台的应用
                在过去几十年ω 的发展中, 微纳加工 技术促进了集成电路的迅速发展,实现了器件的○高集成度,微纳加工技术是人类认识学习微观世界︾的工具,通过理解这一技术可以帮助我们更好认识微...
                光刻加工的其他技术
                2021/07/16
                在光刻加工中,扫描探针光刻(SPL) 是另一组使用扫描探针在纳米级图案化到单个△原子的技术,通过蚀刻掉不需要的材料,或直接将新材料写入基板上。该类别中的一些重要技术包括蘸笔...
                电子束光刻加工应用和参数
                2021/07/16
                电子◆束光刻加工图案中的数字线宽与处理后的实际显影特征尺寸之间几乎总是存在差异。这是由抗蚀剂中的电子散射引起的。对于良好表征的过程,数字大小和实际大小之间通常存在固...
                电子束光刻加工的三个“度”
                2021/07/16
                电子束光刻加工的三个度是不常被提及的功绩数字,其实就是在光刻加工中遇到的:解析度、缝合度、叠加度。常常和设备有关。 解析度:电子束光刻的分辨率是可以图案化的特征的最...
                光刻加工的好处
                2021/07/16
                特征尺寸 在光刻加工中这通常称为最小特征№尺寸或临界尺寸 (CD),它是设计的最小部分。可实现的 CD 取决于您使用的光刻类型和您正在图案化的表面的拓扑结构。 对齐 对齐是指两层相...
                光刻加工涉及的材料有哪些
                2021/07/16
                光刻加工中的抵抗,涉及光刻胶。抗蚀剂是悬浮在溶剂中的聚合物。根据抗蚀剂的类型,可以使用紫外线或电子束选择性地去除它。所有抗性都可以大致分为正抗性或负抗性,其中阳性...
                MEMS加工发展♂及展望
                2021/07/16
                自20世纪90年代以来,微流控芯片技术的出现极大促进了微型化操作和分析方法的研究进展。尽管微流控技术▂只经历了短短30年的发展,其已经从最初单纯的毛细管电泳的微型化∩技术,演...
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