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                新闻中心

                如何生产出一个合格的光刻板

                2022-01-06
                生产制造光刻板的核心工序包括光刻、清洗、显影、蚀刻、检查、修补、贴膜等环节,其技术水平主要体现在:图形设计处理、光刻工序工艺、显影蚀刻工序工艺、测量和检查分析△技术、缺陷控制与修补、洁净室建设等方面。
                如何生产出一个合格的光刻板
                (1)图形设计:收到客户图∩形后,通过专业设计软件对客户的图形做二次编辑处理与检查。
                 
                (2)图形转换:将客户要求的版图设计⊙数据分层,运算。再按照相应的工艺参数将文件格式转换为光刻设备专用的数据形式。
                 
                (3)图形光刻:通过光刻机进行激光光束直写完成客户图形曝光√。光刻板制造都是采用正性光刻胶,通过激光作用使需要曝光区域的光刻胶内部发生交联反应,从而产生性能改变。
                 
                (4)显影:将曝光完成后的光刻板显影∴,以便进行蚀刻。在显影液的作用下,经过激光曝光区域的光刻胶会溶解,而未曝光区域则会保留并继续保护铬膜。
                 
                (5)蚀刻:对铬层』进行蚀刻,保留图形。在蚀刻液的作用下,没有光刻胶保护的区域会被腐蚀溶解,而有光刻胶保护的区域的铬膜则会保留。
                 
                (6)脱膜:光刻胶的保护功能已经完成,脱膜工序通过脱膜液去除多余■光刻胶。
                 
                (7)清洗:将光刻板正、反面的污染物清洗干净,为缺陷检验做准≡备。
                 
                (8)尺寸测量:按照品质协议对光刻板关键尺寸(CD 精度)和图形位置
                 
                (TP 精度)进行测量,判定◣尺寸的准确程度。
                 
                (9)缺陷检查:对照客户技术/品质指▂标检测光刻板制版过程产生的缺陷并记录坐标及相关信息。光刻▲板的基本检查主要有:基板、名称、版别、图形、排列、膜层关系、伤痕、图形边缘、微小尺寸、绝对尺寸、缺陷々检查等。
                 
                (10)缺陷修补:对检验发现缺陷进行修补。修补包括对丢失的细微铬膜进行 LCVD 沉积补正以及对多余的铬膜◥进行激光切除等。
                 
                (11)清洗:再次清洗为贴合光刻板 Pellicle 做准备。
                 
                (12)贴膜:将 Pellicle 贴合在光刻板之上,降低下游客户制造过程中灰尘造成的不良率。
                 
                (13)检查:对光刻板作最后检测工作,以确保光刻板符合品质指标。
                 
                (14)出货:对光刻板进行包装,然后发货。

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