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                行业动态

                微纳加工技术全解析丨看完就不用找别■的资料了(上)

                2021-11-18
                据博研小编了解,微纳加工技术是※先进制造的重要组成部分,是衡量国家高端制造业水平的标志之一,具有多学科交叉性和制造要素极端性的特点,在推动科技进步、促进产业发展、拉动科技进〗步、保障国防安全等方面都发挥着关键作用。
                 微纳加工技术全解析丨看完就不用找别的资料了(上)
                微纳加工技术的基本手段包括微纳加工方法与材料科学方法两种。很显然,微纳加工技术与微电子工艺技术有密切关系。
                 
                微纳加工大致可以分为“自上而下”和“自下而上”两类。“自上而下”是从宏观对象出发,以光刻工艺为基础,对材料或原料进行加工,最小结果尺寸和精度通常由光刻或刻蚀环节的分辨力决定。“自下而上”技术则是从微观世界出发,通过控制原子、分子和其他纳米对象的相互作用力将各种单元构建在一起,形成微△纳结构与器件。
                 
                基于光刻工艺的微纳加工技术主要包含以下过程:掩模(mask)制备、图形形成及转移(涂胶、曝光、显影)、薄膜沉积、刻蚀、外延生长、氧化和掺杂等。
                 
                在基片表面涂覆一层某种光敏介质的薄膜(抗蚀胶),曝光系统把掩模板的图形投射在(抗蚀胶)薄膜上,光(光子)的曝光过程是通过光『化学作用使抗蚀胶发生光化学作用,形成微细图形的潜像,再通过显影过程使剩余的抗蚀胶层转变成具︼有微细图形的窗口,后续基于抗蚀胶图案进行镀膜、刻蚀等〓可进一步制作所需微纳结构或器件。
                 
                掩模板是根据放大了的原图制备的带有透明窗口的◥模板。例如,可以用平整的玻璃◢板,涂覆上金属铬薄膜,通过类似照相制版的方法制╱备而成。具有微纳图形结构的掩模板通常使用电子束光刻机直接制备,其制作过程就是〒典型的光刻工艺过程,包括金属各层沉积、涂胶、电子束光刻、显影、铬层∏腐蚀及去胶等过程。由于模板像素超多,用扫◆描式光刻机制作掩模板的速度相当慢,造价↙十分昂贵。
                 

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