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                电话:0512-65821886 地址:苏州市〖工业园区新平街388号腾飞『创新园A1栋
                光刻胶

                半导体材料 - 光刻胶

                光刻胶又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂↙刻薄膜材料。可用ω于深硅刻蚀,适合于高深宽比工艺,透明度高,垂直度好。
                • 产品介绍
                • 案例展示
                类型 光刻胶型号 适用光谱 厚度um 分辨率 适用工艺
                AZ系列 AZ5214,AZ4620,AZ6130等 g/h/i-line 1-30um 1um 可用于深硅刻蚀
                SU-8系列 SU-8 10系列,20系列等 g/h/i-line 0.1-400um 0.5um 适合于高深宽比工艺,透明度高,垂直度好
                PI LTC9000系列 g/h/i-line 4-50um 4um 用于非铜衬底工艺,固化温度最低可◆以达到250C°
                电子束胶 HSQ Fox-15/16 电子束 100nm 350nm-810nm 分辨率最好的↑光刻胶,抗刻蚀